Электронная почта

sale@njzlny.com

Метановый CVD-алмаз высокой-чистоты

Метановый CVD-алмаз высокой-чистоты

Метановую плазму можно использовать для производства наноалмазов для доставки лекарств и биовизуализации.
Отправить запрос
Описание
Технические параметры

Технологические преимущества

- Контролируемая чистота: количество примесей графита можно уменьшить, регулируя концентрацию метана и соотношение газов.

- Рост на большой-площади: тонкие алмазные пленки можно выращивать на не-алмазных подложках (таких как кремний и металлы).

- Энергоэффективность-эффективность и экологичность. По сравнению с методом высокого-давления и высокой-температуры (HPHT), метод CVD потребляет меньше энергии и может использовать возобновляемые источники энергии для производства метана.

ZL ENERGY -DODECENE 1

Проблемы и улучшения

- Скорость роста. Традиционные методы CVD имеют медленную скорость роста (несколько микрометров в час), что требует оптимизации плазменной технологии и газовой динамики.

ZL ENERGY -DODECENE 2

- Контроль дефектов. Высокие концентрации метана могут привести к образованию аморфного углерода или дефектов границ зерен, что требует точного контроля параметров процесса.

- Проблемы с затратами. Инвестиционные затраты на метан высокой-чистоты и оборудование высоки, а для крупномасштабных-применений по-прежнему необходимо снижение затрат.

ZL ENERGY -DODECENE 3

горячая этикетка : CVD-алмазы из метана высокой чистоты, Китай, CVD-алмазы из метана высокой чистоты-производители, поставщики, фабрика, CH4, Цилиндр изопентан оптовик, Газ CH4, Метан CAS 74-82-8, Метан R50, Полициклические алканы